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現(xiàn)場直擊 | 聚焦日揚(yáng)科技無錫半導(dǎo)體CSEAC 2025展會現(xiàn)場
現(xiàn)場直擊 | 聚焦日揚(yáng)科技無錫半導(dǎo)體CSEAC 2025展會現(xiàn)場

現(xiàn)場直擊|聚焦日揚(yáng)科技無錫半導(dǎo)體CSEAC2025展會現(xiàn)場無錫半導(dǎo)體設(shè)備年會9月4日,第十三屆半導(dǎo)體設(shè)備與核心部件及材料展(CSEAC2025)在無錫太湖國際博覽中心正式開幕?,F(xiàn)場聚集了半導(dǎo)體全產(chǎn)業(yè)鏈上千家廠商,日揚(yáng)科技作為半導(dǎo)體核心零部件與材料廠商,攜帶真空閥門、腔體、零配件、真空涂層和尾氣處理設(shè)備亮相B1-229展位現(xiàn)場,展臺顧客絡(luò)繹不絕,積極探討真空解決方案!展會亮點(diǎn)產(chǎn)品聚焦在APC控壓閥門...

2025-09-05
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  • 氣體流量計(jì)的實(shí)流標(biāo)定與應(yīng)用

    天然氣流量計(jì)量站概況中國石油工業(yè)天然氣流量計(jì)量站是亞洲投資規(guī)模zui大的天然氣計(jì)量站,擁有質(zhì)量一時(shí)間法(mt)一級標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng)(其不確定度0.1%)和臨界流文丘利噴嘴次級標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng)(其不確定度0.25%)。標(biāo)定壓力范圍:0.2~3.8MPa,標(biāo)定工況流量范圍:5~6000m3/h。管徑范圍:DN25~DN400。迄今為止,對美國、荷蘭、德國、新加坡、中國等國各種流量計(jì)進(jìn)行了實(shí)流標(biāo)定與比對,積累了數(shù)萬個(gè)實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)。氣體超聲流量計(jì)的實(shí)流標(biāo)定與現(xiàn)場應(yīng)用1實(shí)流標(biāo)定計(jì)量站用不確定度為0.25%...

    20113-3
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  • 電子槍的基本參量

    在進(jìn)行電子槍的討論中,人們常常會用到一些術(shù)語,在此我們先對它們作一簡單介紹:1、導(dǎo)流系數(shù)當(dāng)陽極電流受空間電荷限制時(shí),電子槍的陽極電流(發(fā)射電流)與陰陽極間電壓有關(guān),在非相對論情況下,它們之間的關(guān)系是3/2次方的比例關(guān)系,也稱二分之三次方定律。在空間電荷限制下,不論電極系統(tǒng)的形狀如何,二分之三次方定律是普遍適用的,電極形狀不同,只影響前面的比例系數(shù)。當(dāng)電極形狀一定時(shí),在一般情況下,導(dǎo)流系數(shù)是一個(gè)常數(shù),與溫度無關(guān),導(dǎo)流系數(shù)的大小表示電子槍發(fā)射電子的能力強(qiáng)弱。也就是說,導(dǎo)流系數(shù)是一...

    20112-28
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  • 真空的由來及制造真空的設(shè)備——高真空鍍膜機(jī)

    科學(xué)技術(shù)飛躍的今天,光電技術(shù)的發(fā)展與應(yīng)用已經(jīng)深入到各行各業(yè),但是其制備的必須設(shè)備——真空鍍膜機(jī)器,由zui初的復(fù)雜化、手動化和只能被應(yīng)用到軍事科研領(lǐng)域,發(fā)展到現(xiàn)在的簡單化,集成化,智能化,并且被廣泛推行及民用,價(jià)格也由之前的幾千萬一臺降到現(xiàn)在的幾百萬就可以買到。光電技術(shù)的發(fā)展必然以真空技術(shù)為基礎(chǔ)。鍍膜機(jī)是集多門學(xué)科一體的精密儀器,尤其在機(jī)電技術(shù)的應(yīng)用方面,甚為廣泛,所以,機(jī)電一體化技術(shù)是真空技術(shù)的基礎(chǔ)。鍍膜設(shè)備的進(jìn)步與發(fā)展也充分體現(xiàn)了機(jī)電技術(shù)的價(jià)值?!罢婵铡币辉~來自希臘語,原...

    20112-23
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  • 2011年3月28-30日廣州真空工業(yè)展

    2011年3月28-30日在廣州保利世貿(mào)展覽中心(琶洲)舉辦廣州真空工業(yè)展。參展范圍:1、真空獲得設(shè)備。2、真空應(yīng)用設(shè)備。3、真空鍍膜設(shè)備。4、真空閥門及真空零部件。5、真空測量與校準(zhǔn)儀器。6、真空材料。7、各種表面儀器及分子束外延設(shè)備。

    20112-16
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  • 磁控濺射鍍手機(jī)殼時(shí)前級泵泵油發(fā)生乳化反應(yīng)的解決方案

    磁控濺射鍍黑色手機(jī)殼時(shí),真空中的氣體乙炔C2H4和機(jī)械泵的真空泵油發(fā)生乳化反應(yīng),導(dǎo)致泵油失效,抽真空時(shí)間變得很長。針對該情形,我司推出了相應(yīng)的解決方案和替代前級泵,我司可以為客戶提供替代前級泵的現(xiàn)場試驗(yàn)。

    201010-28
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  • IC5產(chǎn)品更新?lián)Q代的通知

    INFICON公司將于2010年底停止IC5型膜厚控制儀的生產(chǎn)和銷售。INFICON公司將繼續(xù)保證在用的IC5的保修,維修及零部件的長期供應(yīng)。從2010年8月起,INFICON公司將正式開始IC5的替代升級型號;IC6的市場銷售。IC6在保留了IC5的所有技術(shù)特點(diǎn)之外還有新的改進(jìn)。例如:TFT-LCD顯示屏替代IC5的CRT顯像管;USB數(shù)據(jù)采集接口取代IC5的軟盤驅(qū)動;測量精度由IC5的0.0047Hz提高到0.0035Hz;控制厚度分辨率由IC5的0.0058提高到0.0...

    201010-21
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  • 2011廣州真空工業(yè)展覽會

    隨著真空技術(shù)在國內(nèi)越來越廣泛的應(yīng)用,從國內(nèi)半導(dǎo)體集成電路、LED、顯示器、太陽能光伏、化工、制藥等行業(yè)的發(fā)展來看,對真空技術(shù)的需求越來越大。真空設(shè)備、技術(shù)、材料有著廣闊的市場前景。真空企業(yè)每年得以20%的速度迅猛增長。按照國家能源發(fā)展目標(biāo),在未來十年中僅太陽能發(fā)電的裝機(jī)規(guī)模將達(dá)到幾千萬千瓦。而太陽能發(fā)電的無論是單晶硅、多晶硅還是薄膜太陽能電池的重要、關(guān)鍵生產(chǎn)設(shè)備都是由真空設(shè)備構(gòu)成,真空設(shè)備具有巨大的應(yīng)用市場。但當(dāng)前國內(nèi)產(chǎn)品在“質(zhì)”和“量”上遠(yuǎn)不能滿足市場要求。為了推動真空技術(shù)...

    201010-21
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  • 第十二屆中國光電博覽會(CIOE)

    展出規(guī)模:75000平方米,超過2100家展商時(shí)間:2010年9月6-9日地點(diǎn):深圳會展中心隨著發(fā)達(dá)國家光電產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整的加快,光學(xué)元部件加工和應(yīng)用制造業(yè)正逐漸轉(zhuǎn)向亞太,而中國內(nèi)地成之地。精密光學(xué)展是光博會自創(chuàng)辦初始即zui早涉及的光電展示領(lǐng)域,舉辦十年來已經(jīng)吸引了國內(nèi)光學(xué)的悉數(shù)亮相,已經(jīng)成為業(yè)界*的一年一度解讀光學(xué)產(chǎn)業(yè)技術(shù)、資訊交流的首要窗口。

    20109-7
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  • 氦質(zhì)譜檢漏儀*

    我公司現(xiàn)在一臺瑞士INFICON品牌的UL1000檢漏儀樣機(jī)優(yōu)惠銷售,檢漏儀八九層新,價(jià)格非常優(yōu)惠。如有需求請我。

    20104-28
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  • 我公司已取得英國愛德華真空產(chǎn)品代理

    我公司在2010年2月28日與愛德華公司簽訂了代理協(xié)議,代理授權(quán)地區(qū)為廣東地區(qū)。

    20103-10
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  • 2009深圳手機(jī)產(chǎn)業(yè)展覽會

    2009年深圳手機(jī)產(chǎn)業(yè)展覽會在深圳會展中心舉辦,時(shí)間從2009年11月26日到2009年11月28日。CME中國手機(jī)產(chǎn)業(yè)展覽會,每年兩屆,7月在上海舉辦,11月在深圳舉辦,現(xiàn)已成為中國的手機(jī)行業(yè)品牌展,伴隨著中國手機(jī)行業(yè)的快速發(fā)展,CME以超過30%的速度增長。08年共有來自20個(gè)國家與地區(qū)的450家廠商參展,展覽面積18000平方米。其中美國、法國、瑞典、韓國、日本、以色列等組織了強(qiáng)大的國家展團(tuán)參加,CME已被越來越多的企業(yè)列入每年必選展會,也成為各采購商選購的理想平臺。歡...

    200911-26
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  • 真空技術(shù)與應(yīng)用

    真空技術(shù)是建立低于大氣壓力的物理環(huán)境,以及在此環(huán)境中進(jìn)行工藝制作、物理測量和科學(xué)試驗(yàn)等所需的技術(shù)。真空技術(shù)主要包括真空獲得、真空測量、真空檢漏和真空應(yīng)用四個(gè)方面。在真空技術(shù)發(fā)展中,這四個(gè)方面的技術(shù)是相互促進(jìn)的。真空是指低于大氣壓力的氣體的給定空間,即每立方厘米空間中氣體分子數(shù)大約少于兩千五百億億個(gè)的給定空間。真空是相對于大氣壓來說的,并非空間沒有物質(zhì)存在。用現(xiàn)代抽氣方法獲得的zui低壓力,每立方厘米的空間里仍然會有數(shù)百個(gè)分子存在。氣體稀薄程度是對真空的一種客觀量度,zui直接...

    200911-16
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