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金屬零部件

簡(jiǎn)要描述:半導(dǎo)體 Showerhead,中文名稱為噴淋頭、氣體分配盤或勻氣盤,是半導(dǎo)體制造設(shè)備中的核心部件,在半導(dǎo)體生產(chǎn)過(guò)程中起著關(guān)鍵作用12??蓱?yīng)用于半導(dǎo)體前制程設(shè)備如 ETCH、CVD 等設(shè)備中??商峁└叩墓に囈恢滦?、穩(wěn)定性、可重復(fù)性。

  • 產(chǎn)品型號(hào):Showerhead
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2025-10-22
  • 訪  問(wèn)  量:2593
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金屬零部件Showerhead中文名叫噴淋頭、氣體分配盤或勻氣盤


半導(dǎo)體 Showerhead,中文名稱為噴淋頭、氣體分配盤或勻氣盤,是半導(dǎo)體制造設(shè)備中的核心部件,在半導(dǎo)體生產(chǎn)過(guò)程中起著關(guān)鍵作用12。以下是關(guān)于它的詳細(xì)介紹:


  • 結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)

    • 微孔結(jié)構(gòu):半導(dǎo)體 Showerhead 表面布滿了幾百上千個(gè)微小的通孔,孔徑通常在 0.2-6mm 之間。這些微孔的大小、分布、形狀和噴射角度等都是根據(jù)具體工藝精確設(shè)計(jì)的,以確保氣體能夠均勻地分配到反應(yīng)腔中2。

    • 氣體通道:內(nèi)部有復(fù)雜的氣體通道結(jié)構(gòu),用于引導(dǎo)和分配不同的氣體,使它們?cè)诘竭_(dá)反應(yīng)腔之前能夠充分混合和均勻分布,以滿足半導(dǎo)體工藝對(duì)氣體流量和濃度的精確要求。

  • 材料分類1

    • 金屬 Showerhead:材質(zhì)包括鋁合金、不銹鋼和鎳金屬等,其中鋁合金是zuiguang泛使用的材料,因?yàn)樗哂辛己玫膶?dǎo)熱性能、較強(qiáng)的抗腐蝕能力,來(lái)源廣泛且易于加工。

    • 非金屬 Showerhead:材質(zhì)包括碳化硅(CVD-SiC)、單晶硅、石英玻璃和高純度陶瓷等,主要應(yīng)用在芯片加工設(shè)備的關(guān)鍵工藝制程位置,對(duì)材質(zhì)和加工后的零件質(zhì)量,尤其是孔的一致性要求jigao。

  • 功能作用

    • 氣體均勻分配:將各種工藝氣體均勻地噴射到反應(yīng)腔室內(nèi)的晶圓表面,確保晶圓不同區(qū)域能夠均勻地 “沐浴" 在工藝氣體中,從而提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量,保證沉積膜層的均勻性和一致性2

    • 參與化學(xué)反應(yīng):在化學(xué)氣相沉積(CVD)等工藝中,Showerhead 將不同的前驅(qū)體氣體混合并噴射到襯底表面,使其在一定條件下發(fā)生化學(xué)反應(yīng),形成所需的薄膜,如硅氧化物、多晶硅、金屬氧化物等2。

    • 控制反應(yīng)環(huán)境:用于控制反應(yīng)腔室內(nèi)的氣氛和溫度,提供精確的氣體混合物,并在所需的位置產(chǎn)生均勻的氣體,確保反應(yīng)腔室內(nèi)的氣體分布均勻,實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的沉積過(guò)程2。

    • 形成均勻電場(chǎng):在等離子體輔助工藝(如 PECVD、干法刻蝕)中,Showerhead 作為電極的一部分,通過(guò)射頻電源產(chǎn)生均勻電場(chǎng),促進(jìn)等離子體均勻分布,進(jìn)而提升刻蝕或沉積的均勻性2。

      應(yīng)用領(lǐng)域

    • 刻蝕工藝:在刻蝕設(shè)備中,Showerhead 用于精確控制刻蝕氣體的流量和分布,確保對(duì)晶圓表面的精確刻蝕,以形成所需的電路圖案和結(jié)構(gòu)4

    • 沉積工藝:如化學(xué)氣相沉積(CVD)、物理氣相沉積(PVD)等,Showerhead 將沉積材料的前驅(qū)體氣體均勻地輸送到晶圓表面,實(shí)現(xiàn)薄膜的生長(zhǎng)和沉積2。

    • 清洗工藝:在半導(dǎo)體清洗設(shè)備中,Showerhead 可以將清洗液或氣體均勻地噴射到晶圓表面,去除表面的雜質(zhì)和污染物,保證晶圓的清潔度。

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