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磁控濺射陰極技術(shù)及特點(diǎn)
磁控濺射陰極技術(shù)及特點(diǎn)
更新時(shí)間：2015-09-18 點(diǎn)擊次數(shù)：2199
磁控濺射陰極
核心技術(shù)及特點(diǎn)：
1.特殊設(shè)計(jì)的磁體結(jié)構(gòu)，使得磁場(chǎng)線(xiàn)跨度范圍更寬，從而提高靶材的利用率和膜層的均勻性
2.湍流冷卻技術(shù)，使得水流能夠更平緩的進(jìn)入陰極，從而提高冷卻效果
3.特殊設(shè)計(jì)的耙材固定結(jié)構(gòu)，使得耙材更換起來(lái)更簡(jiǎn)單，降低停工期
4.*的磁體材料 NdFeB，他的強(qiáng)度比其他的稀土磁體要強(qiáng)30%
磁控濺射陰極優(yōu)勢(shì)
1.*的靶材利用率，zui高可以達(dá)到50%，從而降低靶材成本
2.*的產(chǎn)品均勻性，zui高可以達(dá)到±3%
3.可以在更低的真空以及更高的功率下運(yùn)行：zui低壓力可以達(dá)到10-4TOR
4.我們的直接水冷結(jié)構(gòu)可以提高其功率密度達(dá)到250Watt s/in2
5.提高沉積速率
6.多樣的復(fù)合設(shè)計(jì)
7.高標(biāo)準(zhǔn)率
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